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无掩膜光刻机采用逐点扫描、像素拼接的直写成像方式，在制备细线条、尖角、圆弧结构时，极易出现图形边缘台阶状锯齿、毛刺粗糙问题，直接增大线边缘粗糙度，导致后续刻蚀、剥离工艺出现边缘缺陷，是微纳直写加工中普遍的工艺问题。该缺陷在小线宽、高密度阵列图形中表现尤为突出，严重时会造成图形失真、器件性能偏差。

边缘锯齿化主要由扫描机制、参数匹配与样品状态三大因素导致。直写图形由离散像素点拼接而成，当扫描步长过大、像素分辨率不足时，圆弧、斜线无法连续过渡，形成明显台阶锯齿；设备光强灰度调节单一，缺乏边缘渐变曝光补偿，图形边界曝光生硬，无过渡区，加剧边缘粗糙。同时基底翘曲、表面高低起伏不均，会导致不同位置有效曝光剂量不一致，局部过曝、欠曝交替出现，进一步放大边缘毛刺。不同品牌设备的振镜扫描精度、灰度调制等级、像素平滑算法参数差异较大，是成品边缘质量区别的关键因素。

改善图形锯齿缺陷可通过参数优化、算法补偿、样品预处理三步落地。根据目标线宽匹配扫描步长，精细结构区域启用高分辨率扫描模式，缩小像素拼接台阶。开启设备灰度平滑与边缘补偿算法，对斜线、圆弧、尖角区域做渐变曝光调制，柔化图形边界。加工前检测基底平整度，对翘曲基底开启全域高度拟合补偿，保证整面聚焦与剂量均匀。优化版图设计，对极小尖角做工艺倒角平滑处理，规避直写像素极限带来的畸形锯齿。整套参数优化后，可显著降低线边缘粗糙度，提升微纳图形成型保真度。